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单层石墨烯本征缺陷下的电导率计算方法技术
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文档序号:20725230
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本发明公开了一种单层石墨烯本征缺陷下的电导率计算方法。使用本发明能够计算出完美石墨烯晶胞结构出现本征缺陷之后的结构与电子特性的改变,进而得到其电导率的变化情况。本发明首先建立单层石墨烯各类型本征缺陷的晶胞构型模型;然后利用第一性原理得到缺陷...
该专利属于兰州空间技术物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过兰州空间技术物理研究所授权不得商用。
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