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本实用新型公开了一种减少应力组合式化工设备烧架，包括调节式底座，所述调节式底座内侧固定连接烧架板，所述调节式底座上侧滑动连接应力降低侧板，所述调节式底座底部设有底座，所述底座上侧固定连接调节器，所述调节器上设有滑槽，所述滑槽内部活动连接滑块...
该专利属于梁雪怡所有，仅供学习研究参考，未经过梁雪怡授权不得商用。

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