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本发明的名称为用于铜引线接合的纳米结构阻挡层。用于铜引线接合的纳米结构阻挡层(110)包括金属晶粒(114)和在金属晶粒(114)之间的晶粒间金属(116)。纳米结构阻挡层(110)包括选自镍或钴的第一金属，和选自钨或钼的第二金属。晶粒间金...
该专利属于德克萨斯仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德克萨斯仪器股份有限公司授权不得商用。

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