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一种Co3O4纳米阵列超疏水材料涂层及其制备方法技术
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文档序号:20650193
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一种Co3O4纳米阵列超疏水材料涂层及其制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:四氧化三钴纳米阵列的合成,碳布基底上的疏水材料的合成。本发明的有益之处在于:本发明提供的一种Co3O4纳米阵列超疏水材料涂层的制备方法工艺经济且易于操作...
该专利属于西北大学所有,仅供学习研究参考,未经过西北大学授权不得商用。
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