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本发明公开一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，以降低薄膜晶体管所在像素的漏电流。所述薄膜晶体管的制作方法包括：在衬底基板的表面形成多晶硅材料层，在多晶硅材料层的上方形成第一掩膜层，并对多晶硅材料层进...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司授权不得商用。