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提供荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法，能够在同一试样容器内不变更配置地测定分析深度不同的元素。荧光X射线分析装置具有：试样容器(4)，其能够收纳试样(S)；X射线源(2)，其向试样照射原级X射线(X1)；检测器(3)，其检测从被照射了...
该专利属于日本株式会社日立高新技术科学所有，仅供学习研究参考，未经过日本株式会社日立高新技术科学授权不得商用。

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