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水氧自阻隔型量子点及其制备方法技术
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文档序号:20512029
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本发明提供了一种水氧自阻隔型量子点,包括量子点以及包覆在所述量子点表面的氧化铝层。本发明提供的水氧自阻隔型量子点,在量子点表面包覆有能够隔绝水氧的氧化铝层,赋予量子点水氧自阻隔性能。所述水氧自阻隔型量子点不需要在量子点材料层表面额外设置水氧...
该专利属于TCL集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过TCL集团股份有限公司授权不得商用。
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