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气体分离膜的制造方法，其包括下述的(a)、(b)、(c)及(d)工序：(a)工序：针对已被分散于第1溶剂中的二氧化硅纳米粒子的表面，保持被分散于前述第1溶剂中的状态而利用含有反应性官能团的化合物进行处理，得到经反应性官能团修饰的二氧化硅纳米...该专利属于日产化学株式会社;公立大学法人首都大学东京所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学株式会社;公立大学法人首都大学东京授权不得商用。