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一种二硫化钼隧穿晶体管及其制备方法技术
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文档序号:20429184
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本发明属于半导体技术领域,具体为一种二硫化钼隧穿晶体管及其制备方法。本发明隧穿晶体管以二硫化钼薄膜线条作为隧穿晶体管的沟道;源漏电极形成在所述沟道两侧,与所述二硫化钼薄膜线条形成肖特基接触;顶栅介质层采用高K材料,形成在所述沟道区上并覆盖所...
该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。
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