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本发明公开了一种均匀圆阵优化设计评估方法和装置。所述方法包括：根据测向误差和解模糊要求确定均匀圆阵的圆阵半径和阵元数；根据圆阵半径和阵元数确定均匀圆阵的理论相差最小模距；根据理论相差最小模距与通道相差误差之间的倍数关系，使用正态分布查表方式...
该专利属于中国电子科技集团公司第三十六研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第三十六研究所授权不得商用。

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