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本发明公开了一种薄膜晶体管及制备方法、阵列基板、显示面板和显示装置，涉及显示技术领域，为解决顶栅结构的薄膜晶体管存在的短沟道效应的问题而发明。该薄膜晶体管，包括衬底基板、覆盖于衬底基板上的有源层、覆盖于有源层上的栅绝缘层以及覆盖于栅绝缘层上...该专利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。