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一种耐空气暴露的离型膜及其制备方法技术
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文档序号:20261973
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本发明涉及一种耐空气暴露的离型膜及其制备方法,该耐空气暴露的离型膜包括基膜层和离型层,所述基膜层为25~150μm的透明膜,在所述基膜层的表面填充有纳米气相白炭黑,所述基膜层的外表面涂布贴合有离型层;该耐空气暴露的离型膜具有由VDT‑505...
该专利属于苏州市星辰科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州市星辰科技有限公司授权不得商用。
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