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T栅N面GaN/AlGaN鳍式高电子迁移率晶体管制造技术
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文档序号:20245080
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本发明公开了一种T栅N面GaN/AlGaN鳍式高电子迁移率晶体管。主要解决现有微波功率器件的最高振荡频率小,欧姆接触电阻大,短沟道效应严重的问题。其自下而上包括:衬底(1)、GaN缓冲层(2)、AlGaN势垒层(3)、GaN沟道层(4)、栅...
该专利属于吴绍飞所有,仅供学习研究参考,未经过吴绍飞授权不得商用。
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