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本发明公开了一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法。首先在光刻头表面制备用于聚束入射光的表面等离子体透镜，然后在盘片基底表面溅射金属反射层，并在金属反射层表面制备光刻胶感光层。利用硬盘飞行原理，使光刻头与光刻胶盘片间形成稳定的20n...
该专利属于中国石油大学（华东）所有，仅供学习研究参考，未经过中国石油大学（华东）授权不得商用。

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