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本发明提供一种Cu‑Cr合金基材表面层中Cr相粒子均匀弥散化方法，包括如下步骤：选择Cr含量在20～60wt.％的Cu‑Cr合金基材，对其表面进行打磨和清洁；放置在惰性气体保护仓内的工作台上；将激光原位设备的激光参数调整至小于常规激光原位合...
该专利属于中国科学院力学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院力学研究所授权不得商用。

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