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本实用新型公开了一种化工合成过程中取样装置的清洗机构，包括箱体、伺服电机、过滤装置、操作面板，所述箱体内侧设置控制柜，所述箱体内侧靠近所述控制柜处设置所述伺服电机，所述伺服电机上方设置连轴块，所述箱体上位于所述连轴块上方设置清洗槽，所述连轴...
该专利属于福建华宏天城机电设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建华宏天城机电设备有限公司授权不得商用。

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