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本实用新型涉及纳米技术设置的技术领域，特指一种纳米技术设备的粉碎室，包括粉碎腔与配气盘，粉碎腔上部设有进料口，粉碎腔下部设有出料口，配气盘上连接有弯管，弯管上设有喷嘴，弯管通过喷嘴连接于粉碎腔的内腔。本实用新型采用这样的结构设置，粉体进料口...
该专利属于广州致密纳米技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州致密纳米技术有限公司授权不得商用。

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