下载三维硅通孔结构CMOS图像传感器及其制备方法的技术资料

文档序号:20223569

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本发明属于半导体技术领域,具体为一种三维硅通孔结构CMOS图像传感器及其制备方法。本发明方法包括:在制作在硅衬底上的CMOS图像传感器芯片层的周围形成作为支架的聚合物腔壁;将聚光源玻璃与聚合物腔壁上表面相互粘合,形成空气腔;将硅衬底减薄处理...
该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。

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