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本发明属于半导体器件制备技术领域,涉及一种利用溅射GaN衬底的外延生长的半导体发光二极管及制备方法。一种利用溅射GaN衬底的外延生长的半导体发光二极管,包括蓝宝石衬底、AlN薄膜镀层、GaN镀层、n‑GaN生长层、应力释放层、量子阱发光层、...该专利属于淮安澳洋顺昌光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过淮安澳洋顺昌光电技术有限公司授权不得商用。
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本发明属于半导体器件制备技术领域,涉及一种利用溅射GaN衬底的外延生长的半导体发光二极管及制备方法。一种利用溅射GaN衬底的外延生长的半导体发光二极管,包括蓝宝石衬底、AlN薄膜镀层、GaN镀层、n‑GaN生长层、应力释放层、量子阱发光层、...