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本发明提供一种用于调整颗粒分析装置的光照射的监视装置。本发明的监视装置具有监视用控制部(10)，所述监视用控制部(10)具有第一数据处理部(11a)、第二数据处理部(11b)和指示值输出部(12)。第一数据处理部作为用于光轴调整的指示值而生...
该专利属于株式会社堀场制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社堀场制作所授权不得商用。

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