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本发明提供一种化学机械抛光液，包括溶胶型氧化铈、含羟基的非离子型表面活性剂以及pH调节剂。本发明采用溶胶型氧化铈研磨颗粒与含有羟基的非离子型表面活性剂配合使用的技术方案，在一定pH条件下，实现在几乎不降低氧化硅的抛光速率的条件下，提高氧化硅...
该专利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）股份有限公司授权不得商用。

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