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一种半封闭式屏蔽栅IEGT器件结构及其制作方法技术
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文档序号:20162997
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本发明属于半导体器件的制造技术领域,涉及一种半封闭式屏蔽栅IEGT器件结构,半导体基板包括第一导电类型漂移层,在第一导电类型漂移层内的上部设有第二导电类型体区、沟槽及第一导电类型发射极,第二导电类型体区、第一导电类型发射极均与沟槽一侧邻接,...
该专利属于无锡新洁能股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡新洁能股份有限公司授权不得商用。
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