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本发明公开了一种氢氧化钾蚀刻镁铝水滑石的制备方法及应用。采用蚀刻法利用氢氧化钾对镁铝水滑石中的铝物种进行脱除以形成纳米孔道，从而提高水滑石内部的比表面积。通过扫描电镜可以看出，氢氧化钾蚀刻的镁铝水滑石纳米片层上出现孔道，并且片层表面和边缘区...
该专利属于桂林理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过桂林理工大学授权不得商用。

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