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本发明提供一种温敏性的易清洗聚合物薄膜，所述聚合物薄膜以聚偏氟乙烯膜为基础膜，在所述聚偏氟乙烯膜的一面接枝有温敏性材料聚N,N‑二甲基(丙烯酰胺丙基)氨基丙磺酸；该薄膜的制备方法为在引发剂的引发下，使覆于基板上的聚偏氟乙烯基础膜与N,N‑二...
该专利属于东莞东阳光科研发有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞东阳光科研发有限公司授权不得商用。

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