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一种光还原六价铬的离子印迹聚合物材料及其制备和应用制造技术
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下载一种光还原六价铬的离子印迹聚合物材料及其制备和应用的技术资料
文档序号:20127110
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本发明公开了一种光还原六价铬的离子印迹聚合物材料的制备方法,属于新材料领域。该方法以重铬酸钾为模板,2‑乙烯基吡啶为功能单体,三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯与二甲基丙烯酸乙二醇酯为交联剂,甲苯为致孔剂,氧化石墨烯为固体表面活性剂,利用皮克林乳液...
该专利属于华中科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过华中科技大学授权不得商用。
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