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MoNb靶材制造技术
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文档序号:20125812
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一种MoNb靶材。【技术问题】提供一种能够解决布线薄膜、电极薄膜的基底膜、覆盖膜上出现的高电阻的问题以及起因于溅射中靶材的表面粗糙度的结节的问题,能够形成低电阻、且适合于获得稳定的TFT特性的平面图像显示装置的MoNb薄膜的靶材。【解決手段...
该专利属于日立金属株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日立金属株式会社授权不得商用。
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