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沟槽式功率半导体元件的制造方法技术
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文档序号:20114596
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一种沟槽式功率半导体元件的制造方法,以形成沟槽内具有遮蔽电极以及栅极电极的沟槽式功率半导体元件。沟槽式功率半导体元件的制造方法中至少包括形成沟槽栅极结构于外延层的沟槽内。沟槽栅极结构具有遮蔽电极、位于遮蔽电极上方的栅极以及一位于遮蔽电极与栅...
该专利属于帅群微电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过帅群微电子股份有限公司授权不得商用。
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