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本发明揭露一种成像透镜、相机模块与电子装置。成像透镜由光轴至周边依序包含光学有效区及外径区。外径区环绕光学有效区并包含外径曲面、缩减注料痕及净空面。外径曲面与光学有效区同轴于光轴，且外径参考面与外径曲面对应于光轴。缩减注料痕由外径参考面朝光...
该专利属于大立光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大立光电股份有限公司授权不得商用。

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