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本发明公开了一种大焦斑共聚焦X射线光谱分析装置，该装置包含：入射光路、探测光路、样品调节架和光谱数据分析终端。入射光路和探测光路的重合区域构成探测微元；样品调节架用于放置待检测样品，并调节待检测样品与探测微元接触的位置与接触面积大小；光谱数...
该专利属于北京市辐射中心;北京师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京市辐射中心;北京师范大学授权不得商用。

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