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本发明提供一种石墨舟饱和工艺，通过使用15％‑20％氢氟酸去除石墨舟片表面沉积的氮化硅，再使用纯水对石墨舟片进行漂洗，清洗完成后，用烘箱对石墨舟片进行烘干，使用PECVD对其进行预处理，通入硅烷和笑气N2O，开放射频功率，使其结构间二氧化硅...
该专利属于常州亿晶光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州亿晶光电科技有限公司授权不得商用。

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