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一种IGBT及其生长方法技术
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文档序号:20078832
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本发明公开了一种IGBT及其生长方法,该IGBT包括:IGBT本体和P型层;其中,所述P型层,位于所述IGBT本体的栅极底部;所述P型层与所述IGBT本体的N型层形成反向PN结分担承受电压。本发明的方案,可以解决槽栅结构IGBT在承受高电压...
该专利属于珠海格力电器股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过珠海格力电器股份有限公司授权不得商用。
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