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一种基于自旋塞贝克效应的非制冷红外传感器装置制造方法及图纸
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下载一种基于自旋塞贝克效应的非制冷红外传感器装置的技术资料
文档序号:20009119
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本发明公开的一种基于自旋塞贝克效应的非制冷红外传感器装置包括由下至上依次设置的硅基底、二氧化硅衬底、敏感材料层、红外吸收层、顺磁材料层和电极层。硅基底中心位置设置隔热空腔;二氧化硅衬底三个侧面设置隔热缝隙;红外吸收层面积小于敏感材料层面积,...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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