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本发明公开了一种离子注入设备及方法，该离子注入设备包括离子源、一与该真空腔相连通的掺杂气体供应装置、一氢气供应装置，和偏转元件，用于从至少部分束流中分离出掺杂源离子束流和氢离子束流；位于掺杂源离子束流传输路径上的掺杂源离子束流检测装置和/或...
该专利属于上海凯世通半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海凯世通半导体股份有限公司授权不得商用。

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