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本发明涉及半导体制造附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的均匀性的控制装置，方便夹紧；易于控制溶液的速度和量；包括工作台和胶头滴管；还包括第一支撑杆、第二支撑杆、前限位板、后限位板、左挡板、右挡板、推动杆、齿条、后不完整齿轮、...
该专利属于江苏英锐半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏英锐半导体有限公司授权不得商用。

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