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本发明提供一种二氧化铪涂层及其制备方法，属于涂层制备领域。本发明中，原料铪的氯化反应与HfO2涂层的化学气相沉积反应过程简单，HfO2涂层沉积速率大幅提高至30μm/h以上，且不会带来杂质污染；化学气相沉积反应可在预热后的待沉积基体的所有表...
该专利属于贵研铂业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过贵研铂业股份有限公司授权不得商用。

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