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一种使用超声波或兆声波装置(1003,2003)清洗半导体衬底(1010,2010)且不损伤半导体衬底(1010,2010)上的图案化结构的方法，包括：将液体喷射到半导体衬底(1010,2010)和超声波或兆声波装置(1003,2003)之...
该专利属于盛美半导体设备(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)有限公司授权不得商用。

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