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描述了一种用于在选择性催化还原(SCR)后处理系统(24)中将还原剂(28)和排出气(16)混合的旋流混合器(38)。所述旋流混合器(38)可以包括允许所述还原剂(28)和所述排出气(16)流过的所述基部(54)，以及在所述排出气(16)的...
该专利属于卡特彼勒公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡特彼勒公司授权不得商用。

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