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本发明公开了一种硅料清洗方法，属于半导体硅材料技术领域，解决了传统硅料清洗方法清洁度不高，清洗出的硅料纯度不高，严重影响了以硅料为原料的产品的性能。主要包括打磨、酸洗、碱洗、清洗、湿氧除杂、冲洗烘干等操作流程。本发明清洁程度很高，清洗出的硅...
该专利属于江苏京尚圆电气集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏京尚圆电气集团有限公司授权不得商用。

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