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本发明属于等离子体加工领域，并具体公开了一种等离子体束径可控的静电聚焦喷头装置及喷射方法，其包括喷头组件、聚焦组件和变焦组件，喷头组件包括从上至下依次同轴设置的衔接头、辅助接头和输出接头，衔接头内开设有用于放置高压电极的通孔及进气通道，辅助...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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