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本发明涉及CMP抛光垫加工制造领域，具体涉及一种CMP抛光垫背胶喷涂工艺。本发明中主要包括以下步骤：将衬底水平置于热熔胶机的上输送滚轮和下输送滚轮中间送进，于上输送滚轮上设置有与衬底上表面相贴合的上层涂胶纸，于下输送滚轮上设置有与衬底下表面...
该专利属于成都时代立夫科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都时代立夫科技有限公司授权不得商用。

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