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本发明公开了一种单面基材真空镀膜设备，真空发生装置与蒸镀室通过柔性真空管路连接，蒸镀室的一面开口或多面开口，开口处的一侧设置有与密封蒸镀室开口面的待涂布基材，待涂布溶液储罐与真空发生装置或蒸镀室连接；待涂布基材贴近蒸镀室的开口处，真空发生装...
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