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本发明提供一种掩膜版和掩膜版的清洗方法，其中所述掩膜版包括基材层、熔射层，以及拆卸件；所述熔射层，用于吸附颗粒，所述颗粒在使用所述掩膜版对所述显示装置进行物理气相沉积时产生；所述拆卸件，用于在使用所述掩膜版对所述显示装置进行物理气相沉积时，...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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