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一种阵列基板及其制备方法技术
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下载一种阵列基板及其制备方法的技术资料
文档序号:19781877
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本发明提供一种阵列基板,包括提供一基板,并在该基板上依次制备缓冲层、多晶硅层、栅绝缘层、低反射层、栅极、间绝缘层、源漏极、有机膜层、公共电极、钝化层和像素电极;其中,低反射层和栅极采用同一光罩进行制备,且低反射层具有吸收光能而减弱光反射效果...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。
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