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本发明公开了一种离子选择性的纳米通道膜及其制备方法，所述纳米通道膜包括结合在一起两层膜，一层为嵌段共聚物1膜，另一层为嵌段共聚物2膜；所述纳米通道膜的厚度为亚微米级别，其具有规则的纳米级通道分布和高的孔隙率，通道直径在25纳米以下，并且两层...
该专利属于北京赛特超润界面科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京赛特超润界面科技有限公司授权不得商用。

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