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本发明涉及低强度辐射的涂覆膜的制备方法，其特征在于在制备步骤如下：在反应釜中混合丙酮和二甲基甲酰胺，加入经过辐射处理的涂覆剂，再加入聚偏氟乙烯‑六氟丙烯和聚甲基丙烯酸甲酯，制得粘稠液体。在经过辐射处理的基膜上涂覆粘稠液体，干燥制得涂覆膜。所...
该专利属于福建师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过福建师范大学授权不得商用。

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