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本发明揭示了一种测试结构及凹槽刻蚀检测方法，测试结构包括：前端结构；位于所述前端结构上的第一金属层；位于所述第一金属层上的层间介质层，所述层间介质层具有凹槽；位于所述凹槽中的第二金属层；以及分别自第一金属层和第二金属层引出的测试端，以检测第...该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。