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本实用新型涉及机械领域，特别涉及一种自动上料的滑柱抛光装置，包括上料机构、定位机构和抛光机构，所述上料机构包括治具、上料组件和放料组件，放料组件位于上料组件的下方，上料组件包括上料丝杆滑台、连接板、上料气缸和上料板，上料丝杆滑台呈水平设置，...
该专利属于林惠平所有，仅供学习研究参考，未经过林惠平授权不得商用。

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