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本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种基于物理气相沉积(PVD)技术制成的黑色导电PVD薄膜。所述黑色导电PVD薄膜沉积于基材表面，所述黑色导电PVD薄膜由基材表面从下往上依次包括：底层，所述底层为单一金属底层；第一过渡层，所述第一过...
该专利属于深圳市正和忠信股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市正和忠信股份有限公司授权不得商用。

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