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本实用新型公开了一种二极管超声清洗装置，包括壳体，所述壳体为中空结构，且壳体中设有开口向上的清洗槽，所述清洗槽中设有水箱，且水箱位于清洗槽的下方设置，所述水箱的上侧壁竖直连接有管道，且管道位于清洗槽的两侧，所述管道靠近清洗槽的一侧侧壁设有预...
该专利属于山东晶导微电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东晶导微电子股份有限公司授权不得商用。

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