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本发明提供了一种超分子共插层结构抗光老化材料的制备方法，是将紫外吸收剂与受阻胺光稳定剂共插层到LDH得到该光老化材料。其制备方法是，先采用共沉淀法制备紫外吸收剂插层LDH，再利用受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂碱性的差异，借助强碱能够制备弱碱的原...
该专利属于北京化工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京化工大学授权不得商用。

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